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Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析

刘黎明 杨培志 黄宗坦

刘黎明, 杨培志, 黄宗坦. Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析. 新型炭材料, 2007, 22(04): 379-382.
引用本文: 刘黎明, 杨培志, 黄宗坦. Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析. 新型炭材料, 2007, 22(04): 379-382.
LIU Li-ming, YANG Pei-zhi, HUANG Zong-tan. Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析. New Carbon Mater., 2007, 22(04): 379-382.
Citation: LIU Li-ming, YANG Pei-zhi, HUANG Zong-tan. Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析. New Carbon Mater., 2007, 22(04): 379-382.

Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析

详细信息
    通讯作者:

    杨培志

  • 中图分类号: TQ 165

Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析

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    Corresponding author: YANG Pei-zhi
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-05-13
  • 录用日期:  2007-12-20
  • 修回日期:  2007-12-03
  • 刊出日期:  2007-12-20

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